Ion Sputtering Device

概要

走査電子顕微鏡などの非導電性試料への各種金属コーティングを短時間に効率的に行える。

 

仕様

• スパッタリング方式：２極水平電極放電方式
• 使用圧力：〜10-1Pa以下
• ターゲット：直径46mm Au, Pt
• 真空チャンバー：160mm径×180mm高さ（ガラスベルジャー）
• 真空モニター：ピラニー真空計
• ガスコントロール：組み込み
• 排気系：直結形ロータリーポンプ 20L/min

 

場所

材料化学実験棟2階 MC-020