Ion Sputtering Device

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概要

走査電子顕微鏡などの非導電性試料への各種金属コーティングを短時間に効率的に行える。

仕様

  • スパッタリング方式　２極水平電極放電方式
  • 使用圧力　〜10-1Pa以下
  • ターゲット　直径46mm Au, Pt
  • 真空チャンバー　160mm径×180mm高さ（ガラスベルジャー）
  • 真空モニター　ピラニー真空計
  • ガスコントロール　組み込み
  • 排気系　直結形ロータリーポンプ 20L/min